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       随着微电子工业的迅速发展,半导体行业正逐步发展成为“设计业”、“制芯业”、“封装业”、“材料业”四业并举并以“封装业”为主导的发展新时期。随着“制芯业”、“封装业”亚微米技术的突破,单片集成的迅速增加,电子封装向小型化,高性能,高可靠性和低成本方向发展。制芯业,封装业对所需电子化学品如光刻胶、超净高纯试剂、塑封料、聚酰亚胺及印刷线路板基材等材料的性能质量要求越来越高,电子化学品对半导体行业发展作用越来越显得重要。是一个很重要的精细化工门类。


光刻胶 超净高纯试剂 环氧模塑料的组分与性能的关系
发展现状 微电子技术发展现状 环氧模塑料成型工艺及其产品考核标准
光刻技术的发展 工艺化学品发展现状 工艺过程及其工艺条件
光刻工艺过程 工艺化学品的分类 塑封常见工艺问题及其解决方法
紫外负型光刻胶 品种分类 塑封产品考核方法、条件及其分级
紫外负型光刻胶 质量规格 半导体器件封装后处理技术
重铬酸盐-胶体聚合物系光刻胶 工艺化学品的应用 半导体器件引线脚电镀
聚乙烯醇肉桂酸酯系负型光刻胶 湿法清洗 半导体器件的引线脚热浸锡工艺
环化橡胶-双叠氮型紫外负型胶 湿法蚀刻 去飞边工艺
安全溶剂环化橡胶双氮系紫负型胶 中国工艺化学品市场预测及应用前景 半导体用液体环氧封装料
水溶性光刻胶 工艺提纯技术 FC-PBGA用液体环氧封装材料
国内环化橡胶-双叠氮系紫外负型胶生产状况 蒸馏与精馏 CD-PBGA用液体环氧封装材料
紫外正型光刻胶 亚沸蒸馏 其他软封装用环氧灌封材料
感光机理 等温蒸馏 印制电路板用基板材料
邻重氮萘醌磺酸酯的制备 减温蒸馏 PCB用基板材料作用
线性酚醛树脂的合成 减压蒸馏 分类与标准
正胶配制 升华 基板材料的生产制造与主要性能
正胶显影理论 化学处理技术 主要原材料
正胶辅助技术的发展 气体吸收技术 生产过程与工艺原理
远紫外光刻胶 颗粒控制技术 主要性能要求
化学增幅型远紫外线光刻胶 产品的包装、贮存及运输 各类型基板材料性能特性对比
248nm远紫外光刻胶 产品的包装技术 纸基基板材料用酚醛树脂
193nm远紫外光刻胶 产品的贮存运输 桐油改性酚醛树脂的反应影响因素
157nm远紫外光刻胶 分析测试技术 桐油树脂分子量及分子量分布
电子束光刻胶 颗粒的分析测试技术 玻璃布基基板材料用环氧树脂
电子束负型光刻胶 金属杂质的分析测试技术 双酚A型环氧树脂
电子束正型光刻胶 阴离子的分析测试技术 环氧玻璃布基基板材料树脂漆的组成与特性
其他光刻胶技术 工艺化学品制备工艺简述 基板材料主要性能与环氧树脂的关系
表面成像技术 硫酸的制备 基板材料用环氧树脂制造技术新发展
X射线光刻胶和离子束光刻胶 过氧化氢的制备 玻璃布基基板材料用高性能树脂
厚膜光刻胶 氢氟酸的制备 聚酰亚胺树脂
聚酰亚胺材料 盐酸的制备 BT树脂
硝酸的制备
聚酰亚胺(PI)材料的分子设计及在微电子技术的应用 磷酸的制备 热固性PPE树脂
微电子工业中的PI材料 氢氧化铵的制备 积层多层板制造用绝缘树脂
聚酰亚胺材料的分子设计 无水乙醇的制备 积层多层板用感光性树脂
聚酰亚胺在微电子工业中的应用 环氧模塑料 积层多层板用热固性树脂
光刻性聚酰亚材料 半导体封装业发展概况 积层多层板用附树脂铜箔
光敏性聚酰亚胺树脂 集成电路电子封装的作用  
标准型聚酰亚胺和光敏性聚酰亚胺的比较 电子封装的结构及形式  
PSPI的发展 电子封装的发展过程及趋势  
酯型PSPI 集成电路封装发展的主要驱动力  
离子型PSPI 集成电路用环氧塑封料  
自增感型PSPI 集成电路用环氧塑封料的性能  
正性光敏性聚酰亚胺 环氧模塑料  
化学增幅型聚酰亚胺光刻胶 环氧模塑料发展历程  
聚酰亚胺取向膜材料 环氧模塑的组成及其主要性能  
液晶显示器的显示原理 环氧模塑料的固化反应机理  
液晶显示器的制造工艺 环氧模塑料制备工艺过程  
液晶分子取向排列技术 环氧模塑的种类及其性能  
液晶外发展现状与趋势 环氧模塑料性能测试方法及标准  

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